ALUNA-100, gaz fazı yöntemi ile sentezlenen yüksek yüzey alanı alüminyum oksit tozudur. Pozitif yüzey yükü özellikleri nedeniyle, birçok uygulama alanında özel uygulama özelliklerine sahiptir.

ALUNA-100CHC, buhar fazı yöntemi ile sentezlenen yüksek özgüllük alümina tozudur. Toz, yüzeyde pozitif bir yüke sahiptir ve kaplamaların yük hızını ve akışkanlığını arttırmak için toz kaplamalarda yaygın olarak kullanılır.

Lityum pil ayırıcılarında, ayırıcının yüksek sıcaklık direncini ve pilin güvenliğini arttırmak ve aynı zamanda demir iyonlarının lityum pilin performansı üzerindeki hasarını azaltmak için yaygın olarak kullanılır. Tozun yüzeyindeki pozitif yük, birçok uygulamada da özel performans sağlar.

Uzun süre yerleşmeden çeşitli konsantrasyonların dispersiyonlarını hazırlamak için kullanılabilir. Tozun yüzeyindeki pozitif yük, birçok uygulamada özel uygulama özellikleri de sağlar.

Bu ürün kataliz ve fotokataliz için uygundur ve etkili bir ultraviyole ışık ekranlama malzemesi olarak da kullanılabilir.

Silikon kauçuk sistemlerinin ısı direncini arttırmak için kullanılabilir, endüstriyel katalizde ve fotokatalizde kullanılabilir ve etkili bir ultraviyole ışık koruma malzemesi olarak kullanılabilir.

HC-612, HMD'lerle (heksametildisilazan) kimyasal tedavi sonrası 150m2/g'lik spesifik yüzey alanına sahip hidrofilik fumed silika tarafından üretilen hidrofobik fumed silikadır.

HC-615, HMD'lerle (heksametildisilazan) tedavi sonrası kimyasal tedavi sonrası 150m2/g'lik spesifik yüzey alanına sahip hidrofilik fumed silika tarafından üretilen hidrofobik fumed silikadır.

HC-620, HMD'lerle (heksametildisilazan) tedavi sonrası kimyasal tedavi sonrası 200m2/g'lik spesifik yüzey alanına sahip hidrofilik fumed silika tarafından üretilen hidrofobik fumed silikadır.

HC-630, HMD'lerle (heksametildisilazan) tedavi sonrası kimyasal tedavi sonrası 400m2/g'lik spesifik yüzey alanına sahip hidrofilik fumed silika tarafından üretilen hidrofobik fumed silikadır.

HC-132, HMD'lerle (heksametildisilazan) tedavi sonrası kimyasal tedavi sonrası 200m2/g'lik spesifik yüzey alanına sahip hidrofilik fumed silika tarafından üretilen hidrofobik fumed silikadır.

HC-139, PDM'ler [polidimetilsiloksan) ile kimyasal tedavi sonrası işlemden sonra 200m2/g'nin spesifik yüzey alanı ile hidrofilik fumed silika tarafından üretilen hidrofobik fumed silikadır.

HC-151, DD'lerle (dimethiliklorosilan) kimyasal tedavi sonrası 150m2/g'lik spesifik yüzey alanına sahip hidrofilik fumed silika tarafından üretilen hidrofobik fumed silikadır.

HC-152, DD'lerle (dimethiliklorosilan) kimyasal tedavi sonrası 200m2/g'lik spesifik yüzey alanına sahip hidrofilik fumed silika tarafından üretilen hidrofobik fumed silikadır.

HC-701, özel silan tarafından modifiye edilmiş aktif silanol grubu ile yüzey ile tedavi edilen fumed silikadır.

Metiltriklorosilan, esas olarak silikon bileşikleri, fumed silika, silikon karbür substrat epitaksiyal gofret büyümesi, silikon karbür nano-kreatingleri ve yüksek performanslı silikon karbür seramik bazlı kompozit malzemeler üretmek için kullanılan organik bir bileşiktir.